1、化學清洗系統(tǒng)確定之后，應做好各項準備工作，包括清洗用藥、清洗用水、熱源、電源、備用泵、廢液的排放等準備工作，并落實好各項安全措施。準備工作做好之后，便可進行化學清洗。
2、除洗爐工藝外，其他清洗劑洗爐的步驟一般有：水沖洗—堿洗—酸洗—漂洗—鈍化等步驟。一、水沖洗在化學清洗前，應先用清水將清洗系統(tǒng)進行沖洗，其目的是為了除去某些可被水沖掉的附著物。此外，水沖洗還可以檢驗清洗系統(tǒng)有無漏水之處。水沖洗的流速越大越好，但往往受現(xiàn)場條件，如泵的出力，的限制，但水沖洗的流速一般應保持大于0.6/。
3、當清洗系統(tǒng)復雜時，可考慮分組進行。沖洗時，可先用清水沖至透明后再用除鹽水置換。
4、二、堿洗或堿煮堿洗的目的主要是為了清除鍋爐內(nèi)表面的油污或硅的化合物，以改善被清洗表面的潤濕**，為下一步的酸洗創(chuàng)造有利條件。堿洗液常用以下兩種配方。
5、1，濃度為0.2%-0.5%的34和0.1%-0.2%的24混合液。2，濃度為0.5%-1.0%的和0.5%-1.0%的34混合液。另外，為了提高去污效果，通常還向堿液中添加少量的洗滌劑，如601、401洗滌劑，堿洗時流速一般應大于0.3/，堿液循環(huán)流動的時間為8-24，溫度一般控制在90-98℃。
1、堿洗結(jié)束后，應放盡清洗系統(tǒng)內(nèi)的堿洗廢液，然后用除鹽水，或軟化水，沖洗回路，至出水≤8.4，水質(zhì)清澈為止。在大多數(shù)情況下采用堿洗，但當鍋內(nèi)油脂較多或沉積物中含硅化合物較多時，可考慮堿煮。堿煮的目的，一是除油污；二是除二氧化硅和松動沉積物，以提高清洗效果。
2、堿煮使用的藥品主要是和34的混合液，兩者總的濃度為1%-2%左右，有時還加少量的合成洗滌劑，如烷基磺酸鈉等，堿煮的方法是，當鍋內(nèi)加入堿液以后，鍋爐點火升溫，使汽壓至0.98-1.96，并維持4，隨后進行排污，排污量為額定蒸發(fā)量的5%-10%。
3、排污后再補水，然后升壓堿煮、排污，如此反復幾次，直至洗凈為止。當藥液濃度降到開始濃度的一半時，應適當添加藥劑。最后當水溫降到70-80℃時即可排出全部廢液，并用水清洗。
4、沖洗的要求和堿洗一樣。三、酸洗酸洗是化學清洗的主要步驟。
5、用鹽酸或檸檬酸清洗時，通常采用閉式循環(huán)方式，加入清洗液的方法有兩種：一種是邊循環(huán)邊加藥，即用堿洗后留在系統(tǒng)中的合格沖洗水來配制。首先使除鹽水在系統(tǒng)中循環(huán)，并加熱到所需的溫度，然后在循環(huán)過程中慢慢加入事先配好的濃藥液。其順序是先加緩蝕劑，循環(huán)均勻后再加清洗劑，此法一般用于高參數(shù)鍋爐；另一種是在清洗溶液箱中配置成一定濃度的溶液，并加熱到所需溫度，然后泵入清洗系統(tǒng)，此法常用于低壓或中壓小容量鍋爐。在酸洗過程中，應經(jīng)常測定清洗液的溫度，并在各取樣點取樣測定含鐵量和酸濃度。
